遼寧有色金屬加工設備

陣列式等離子體增強化學氣相沉積系統（PECVD） 320     

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陣列式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一種高效、大面積的化學氣相沉積設備，通過等離子體激活反應氣體，在低溫下實現高質量薄膜的快速沉積。

高真空雙室多功能鍍膜設備 258     

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高真空雙室多功能鍍膜設備是一種集成了多種PVD(物理氣相沉積)技術的先進鍍膜系統，通過雙腔室設計實現高效率、無污染、多工藝組合的薄膜制備。

脈沖激光鍍膜設備 321     

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脈沖激光鍍膜設備(PLD)是一種利用高能脈沖激光轟擊靶材，使材料氣化并在基片上沉積成膜的物理氣相沉積(PVD)技術。

單室熱蒸發鍍膜設備 249     

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單室熱蒸發鍍膜設備是一種采用物理氣相沉積(PVD)技術的薄膜制備設備，主要通過電阻加熱方式使鍍膜材料蒸發并在基片表面沉積成膜。

雙室熱蒸發鍍膜設備 212     

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雙室熱蒸發鍍膜設備是一種采用物理氣相沉積（PVD）技術的精密鍍膜系統，通過獨立雙腔室設計實現高效連續的薄膜制備。該設備主要應用于光學薄膜、電子器件、功能涂層等領域。

電阻式蒸發鍍膜設備 233     

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電阻式蒸發鍍膜設備是一種利用電阻加熱原理使鍍膜材料蒸發，并在真空環境中沉積到基片表面形成薄膜的物理氣相沉積(PVD)設備。

真空感應熔鑄爐 291     

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真空感應熔鑄爐主要用于金屬、合金或特殊材料，在高真空、中真空或惰性氣體氣氛下，在陶瓷類坩堝或石墨坩鍋里進行材料熔化，然后根據不同的工藝要求，來達到需要的鑄錠或者成型；

真空霧化制粉爐 285     

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真空氣霧化工作原理是在真空狀態或氣體保護條件下熔煉金屬和金屬合金，金屬液體經過保溫坩堝、導流嘴向下流出，通過噴嘴由高壓氣流將金屬液體霧化破碎成大量細小的液滴。細小的液滴在飛行中凝固成球形和亞球形顆粒，再經篩選分離達到制備各種粒度的金屬粉末。

水霧化制粉爐 298     

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水霧化制粉方法是近幾年來在粉末冶金行業中發展起來的一種新興工藝。它具有工藝簡單、技術容易掌握、材料不容易氧化、自動化程度較高等優點。具體工藝是合金(金屬)在感應爐中熔化、精煉后，熔化的金屬液體倒入保溫坩堝中，并進入導流管和噴嘴，此時熔體流被高壓液體流(或氣體流)所霧化，霧化后的金屬粉末在霧化塔中進行凝固、沉降、最后落入收粉罐中收集分離。廣泛應用于霧化鐵粉、銅粉、不銹鋼粉、合金粉等有色金屬制粉領域。成套鐵粉設備、銅粉設備、銀粉設備、合金粉設備的制造技術日臻成熟。

霧化噴射成形裝置 303     

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噴射成形，又稱噴射鑄造，是一種新興的快速凝固技術，它將金屬熔體霧化和沉積兩個過程結合為一體，直接由液態金屬制取快速凝固預成型坯件，是一種低成本的近終形和半固態的加工技術。它克服了粉末冶金技術工序復雜、氧化嚴重等問題，目前在國內外發展非常迅速。

真空壓力浸漬爐 378     

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設備主要是通過真空-壓力浸漬的方法，制備航空、航天用金屬基復合材料、樹脂基復合材料、C/C復合材料，提高復合材料的致密度和綜合性能。

真空脫氫設備 271     

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真空脫氫設備主要用于鉿、鋯、鈦及其合金或稀土等脫氫處理。

真空氫化脫氫一體化設備 271     

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真空氫化脫氫一體化設備主要用于鉿、鋯、鈦及其合金或稀土等吸氫材料的氫化及脫氫一體化處理。

真空氫化設備 351     

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真空氫化設備主要用于鉿、鋯、鈦及其合金或稀土等吸氫材料的氫化處理。

熱等靜壓設備 330     

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主要用于鑄件、粉末成形零件的無缺限致密化處理，硬質合金、復合材料、陶瓷的增強處理，材料間的連接與復合處理，常與燒結工藝相結合。

磁控濺射連續鍍膜系統 556     

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設備用途：主要用于在硅片(或玻璃片)表面制備金屬薄膜(A I 、Ag 、Ni 、Cu、Ti 、Pd等)，及有機薄膜，并能升級實現反應濺射。模塊式設計，可根據實際需求和功能，組合成型。

小液滴噴射制備系統 505     

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沈陽好智多新材料制備技術有限公司的小液滴噴射制備系統主要用于在高真空或超純氣氛保護下，制備低熔點和高熔點材料的均勻微球，還能通過預留的拓展接口增加沉積模塊，用于增材制造的模擬和探究。該系統具備廣泛的熔融溫度范圍(室溫至1200℃)，配備進口紅外測溫儀及熱偶，極限真空度可達7×10?3Pa，可通入氬氣并用質量流量計精準控制流量。

超聲激振技術系列應用設備 489     

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沈陽好智多新材料制備技術有限公司的超聲激振技術系列應用設備，主要用于金屬制備過程中的多種處理。它通過真空感應熔煉金屬，在金屬凝固前或凝固過程中，對金屬熔體施加高強度超聲激振，能夠實現粉末材料與母合金液的均勻化分散，還能控制金屬凝固組織和性能，比如細化晶粒等。

懸浮熔煉壓力熔滲制備金屬纖維增強設備 489     

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金屬溶滲工藝是在金屬的融化溫度以上，將多孔制件與熔融的液體金屬相接觸或滲入液體金屬內，利用毛細管作用，使液相金屬充填到預制件的孔隙內，形成致密的兩相或多相復合材料。本設備具體是將鎢絲密排于石英管內，將融化后的合金液(非晶合金)澆注壓力熔滲入鎢絲之間的孔隙內，經保溫后將石英管(內置鎢絲及合金液)快速淬入鎵銦錫合金液內(或者鹽水)，達到快速凝固作用，制成復合材料零件。

等離子弧冷坩堝感應熔煉鑄錠爐 489     

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產品應用：利用等離子弧加熱熔化放置于水冷銅坩堝內的高熔點金屬或陶瓷，通過設置于水冷銅坩堝外的高頻感應線圈進一步熔化攪拌合金液，在通過連續下拉機構完成鑄錠;熔鑄過程中可以連續加料。用于多晶硅、鈦合金、活性金屬以及高熔點陶瓷材料的高溫提純和凈化及鑄錠。

電子束冷床熔煉鑄錠爐 519     

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沈陽好智多新材料制備技術有限公司的電子束冷床熔煉鑄錠爐，主要用于多晶硅、鈦合金等活性金屬和高熔點金屬的高真空熔煉提純、凈化及鑄錠。該設備具備出色的真空性能，極限真空度可達6.67×10??Pa，壓升率不超過0.67Pa/H。電子槍額定功率為100KW，加速電壓35KV，加速電流7A，電子槍室真空度在10??～10?3Pa之間。電子束距離長度為400～800mm，功率密度大于2.5×10?W/cm2。

水冷銅坩堝感應熔煉澆鑄爐 482     

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ISM 熔煉過程是在一種由水冷片或稱之為“手指型結構”組成的水冷銅質坩堝內，并在真空或者保護氣氛環境下進行的生產過程。整個結構沒有采用任何耐火材料爐襯從而杜絕了金屬/坩堝之間的反應。這樣也就消除了金屬陶瓷夾雜污染的可能性，生產出超純凈、高品質的產品。普遍應用于鈦、鋯等材料的熔煉提純與離心鑄造。

等離子體電弧熔煉提純系統 473     

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設備用途：設計專門用于熔融樣品，適合實驗室、工廠用于材料研究、開發、質量控制等。氣體保護環境下熔融、合金化反應性和高熔點金屬材料。適合稀土金屬元素及合金的熔融。

堆外模擬LOCA系統 540     

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LOCA作為反應堆運行過程中比較嚴重的事故，是反應堆基準設計事故，而作為確保裂變產物不泄漏的第一道屏障，鋯合金優異的性能對于保證LOCA-nAT的核安全具有重要意義，本設備用于模擬LOCA工況下鋯合金的高溫氧化行為，抗熱沖擊性能和力學性能及顯微組織等方面的內容，為反應堆用鋯合金的研發提供了技術支持。

葉片類高真空高溫定向凝固爐 487     

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產品應用：設備是集合金熔煉、澆注、模殼雙區保溫、定向凝固為一體的單晶高溫合金定向凝固設備。在凝固過程中獲得高的溫度梯度，穩定的晶體生長條件，該設備以實驗研究為主，兼顧小規模工業示范研究;采用的單晶制備技術：①籽晶法 ②選晶法。

堆外模擬LOCA測試系統 477     

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LOCA作為反應堆運行過程中比較嚴重的事故，是反應堆基準設計事故，而作為確保裂變產物不泄漏的第一道屏障，鋯合金優異的性能對于保證LOCA-nAT的核安全具有重要意義，本設備用于模擬LOCA工況下鋯合金的高溫氧化行為，抗熱沖擊性能和力學性能及顯微組織等方面的內容，為反應堆用鋯合金的研發提供了技術支持。

高真空高溫材料粘度測試設備 490     

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產品應用：在真空或惰性氣體保護環境下，金屬材料(鋁合金等)加熱熔化后，通過黏度測試儀對高溫熔化材料的粘度指標進行測試的設備，用于材料高溫粘度測試研究。

小型高壓氣淬爐 494     

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沈陽好智多新材料制備技術有限公司的小型高壓氣淬爐主要用于金屬材料的多種熱處理工藝。它能在真空或惰性氣體保護環境下，對高溫合金、鈦合金、工模具鋼等材料進行高壓氣體淬火、光亮退火、固溶時效和回火等操作。該設備最大裝料量為20KG(含料盤夾具)，采用鉬帶電阻加熱方式，均溫區尺寸為200mm×200mm×300mm。

高真空硬碳膜制備系統 501     

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設備用途：在光學玻璃鏡片上和硅太陽能電池上制備類金剛石薄膜，作為減反射膜和保護層，在紅外光學透鏡上制備類金剛石薄膜起到增透和保護作用。

有機無機蒸發鍍膜系統 486     

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利用電阻加熱產生熱能，將待成膜的物質置于真空中進行蒸發或升華，使之在基片表面析出的過程。用于制備各類金屬膜、有機薄膜等，適合有機發光二級管(OL ED) 和光伏電池等的有機/無機薄膜生長，廣泛應用千大專院校、科研機構的科研及小批量的生產。