本公開一般地涉及顯示系統,更具體地說,涉及增強現實顯示系統及其制造方法。一種制造顯示設備的方法包括提供包括鋰(Li)基氧化物的基板以及形成暴露基板的區域的蝕刻掩模圖案。該方法另外包括使用包含CHF3的氣體混合物對基板的暴露區域進行等離子體蝕刻以形成衍射光學元件,其中所述衍射光學元件包括被配置為衍射入射在其上的可見光的Li基氧化物特征。
聲明:
“制造具有圖案化基于鋰的過渡金屬氧化物的顯示設備的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)