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Zeta-20臺式光學輪廓儀是非接觸式3D表面形貌測量系統。該系統采用ZDot?技術和Multi-Mode(多模式)光學系統，可以對各種不同的樣品進行測量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理，以及納米至毫米級別的臺階高度。
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KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從nm-mm，可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品，可測量從幾mm到450mm大小的樣品，薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。F40用于測量光斑<1μm的薄膜膜厚。
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威而信高精度自動調心圓度儀CA35CNC是上海阜力測量設備有限公司代理的高端圓度測量設備，集成自動調心技術與CNC控制系統，可精準測量圓柱、圓錐等回轉體零件的圓度誤差，適用于軸承、汽車零部件、精密機械等行業，為質量控制與工藝優化提供高效、自動化的測量解決方案。
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KLA先進的探針式臺階儀Alpha-StepD-600，可測量納米級至1200um臺階高度，并可分析薄膜表面粗糙度、波紋度、應力。且其具有5.0A(1σ)或0.1%臺階高度重復性以及亞埃級的分辨率。
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KLA公司全系列的力學測試產品均采用電磁驅動原理的加載力激發器，iNano臺式納米壓痕儀。對納米壓痕物理模型和優線性特性的電磁力驅動原理的深刻理解，以及良好的靈敏度的三片式電容傳感器的設計，保證全系列納米力學產品在整個量程范圍內均能得到高精準、高分辨的控制。50mN載荷范圍，3nN加載精度，0.002nm位移精度。
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Park XE-15大樣品臺工業原子力顯微鏡是專為共享實驗室、多變量實驗和晶片失效分析設計的高性能設備。它具備100μm×100μm的XY柔韌導向掃描范圍和12μm（可選25μm）的撓性導向強力Z掃描，配備滑動連接的超亮二級管頭和多樣品夾頭。此外，選配的編碼器XY自動樣品載臺和垂直對齊的電動Z載臺及聚焦載臺，進一步提升了操作的便捷性和成像效率。6寸樣品臺的設計使其能夠容納較大尺寸的樣品，實現多樣品一次性自動成像，提高數據精確性和穩定性，滿足多樣化的研究需求。
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LiteScope?是為不同品牌的掃描電子顯微鏡（SEM）設計的“即插即用”的掃描探針顯微鏡。根據客戶需求，定制并提供適當的適配器和反饋機制，很容易通過四個螺絲將LiteScope?固定在電子顯微鏡的樣品臺上，通過線纜與控制器、電腦進行連接。LiteScope?通過可更換探針進行多種掃描探針顯微鏡（SPM）成像模式。綜合分析包括：表面形貌表征、機械性能、電性能、磁性能。
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Nano Indenter? G200系統是一種準確，靈活，使用方便的納米級機械測試儀器。 G200 測量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個數量級的形變測量。 該系統還可以測量聚合物，凝膠和生物組織的復數模量以及薄金屬膜的蠕變響應（應變率靈敏度）。 模塊化選項可適用于各種應用：頻率特定測試，定量刮擦和磨損測試，集成的基于探頭的成像，高溫納米壓痕測試，擴展負載容量高達10N 和自定義測試。
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原子力顯微鏡(AtomicForceMicroscope,AFM)經過30多年的發展后，從形貌測試及其它常規功能來看已經非常成熟。然而常規的原子力顯微鏡也越來越無法滿足科研人員在納米尺度下對于樣品進行多性質原位測試分析的需求，尤其在化學、光學、電學、熱學、力學等領域。
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透射電鏡多尺度、多視角（明、暗場像，電子衍射， 化學成分）的實驗分析能力，基于透射電子顯微鏡的原位微納米力學實驗儀器，將為研究材料內部缺陷形成、演化行為提供實驗平臺。將三維納米操縱與360度旋轉耦合的三維重構樣品臺，是實現原子級三維重構提供設備支撐。將三維重構與原位光學、力學和電學等原位加載功能結合，實現對于三維結構演化的動態解析，無疑將對深化人類對于物質結構的認識提供支撐。
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Swift Tensile Stage原位拉伸臺是一款專為現代材料研究設計的多功能設備，適用于掃描電鏡、透射電鏡、光學顯微鏡、共聚焦顯微鏡等多種顯微觀測系統。它支持EBSD、樣品加熱和冷卻，能夠實現“拉伸—剪切”、“壓縮—剪切”、“單軸拉伸/壓縮”、“純剪切”及疲勞力學測試等多種模式，適用于薄膜及細絲力學實驗。該設備結構緊湊，兼容真空和電磁環境，采用超低速準靜態加載方式，便于在成像儀器下進行連續可視化原位監測，揭示載荷作用、材料變形損傷機制與微觀結構變化間的規律。
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陰極熒光成像光譜探測系統（Cathodoluminescence, CL）是一種高精度的分析工具，通常配置在掃描電鏡或透射電鏡中，能夠實現形貌觀察、結構和成分分析與陰極熒光光譜的結合研究，并支持全光譜熒光掃描成像。該系統利用高能量、小束斑的電子束激發樣品，具有高空間分辨率、高激發能量、寬光譜范圍和大激發深度等優點，特別適用于半導體材料與器件、熒光材料（如地質、考古材料）等的微觀分析。在微米、納米尺度的半導體量子點、量子線等熒光物質的研究中，陰極熒光技術能夠揭示發光性質及電子結構，具有重要的應用價值。
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ezAFM是新設計的精致型原子力顯微鏡，具有設計緊湊、美觀大方、高穩定性、占用空間小等特點，而且軟件功能強大、操作簡單、用戶界面良好，而且價格實惠，性價比較為高。它是理想的實驗室用原子力顯微鏡，廣泛應用于高等教育、納米技術教育和基礎研究等領域。產品系列包括：ezAFM、ezAFM+、ezAFMAQUA、以及ezAFM-Vacuum，ezSTM除了基本的形貌等掃描，可以用于電學、磁學等拓展模式，以及液相、真空環境等。
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