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垂直管式爐是一種實驗室設備，用于在受控大氣條件下對材料進行高溫處理。它由一根垂直方向的石英管組成，石英管封閉在一個加熱室內，可以實現精確的溫度控制和均勻的熱量分布。這些爐子通常用于各種應用，包括熱處理、淬火、退火、晶體生長和化學氣相沉積（CVD）涂層。立式管式爐具有可編程溫度控制器、真空密封功能和用于樣品處理的專用附件等先進功能，為材料加工提供了多功能性和精確性。垂直管式爐能夠產生可控氣氛并達到高溫，是研發、材料科學和工業應用領域的重要工具。
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氫氣氣氛爐的結構采用了加熱室整體真空密封技術，隔熱室和加熱元件均內置在一個加強型真空室中，其結構類似于真空手套箱的設計，操作人員可使用真空泵將室內空氣吸盡，直至負壓為-0.1Mpa，然后將惰性氣體涌入室內，以達到良好的可控氣氛環境。KT-AH 型氫氣氣氛爐是一種感應氣體氣氛爐，可使用氫氣進行燒結或退火工藝。氫氣爐的絕緣材料為多晶陶瓷纖維，加熱元件為高純度鉬絲加熱器，爐內裝有氫氣安全泄漏檢測器和排放氫氣自動點火裝置。
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網帶式可控氣氛爐是一種可在露天和可控氣氛環境中工作的連續式生產爐。它主要用于厚膜電路、電阻器、電容器和電感器等電子元件的高溫燒結工藝。該爐采用精選陶瓷纖維加熱器，反應迅速，溫度均勻；采用輕質陶瓷纖維隔熱材料，能耗低；采用網帶傳動系統，傳動穩定；采用多獨立溫度熱區控制，調節靈活。它還可選配網帶超聲波清洗系統和中央計算機控制裝置。該爐可進行定制，以滿足特定的工藝要求，包括氣氛、溫度和產量。
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KT-PE16 傾斜旋轉式 PECVD 爐 PECVD 爐由一個 500W 射頻等離子源、一個雙區 TF-1200 管式爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐子的最高工作溫度可達 1600℃。工作溫度高達 1600℃，爐管為直徑 60mm 的 Al2O2 陶瓷管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 1 臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10Pa。
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KT-PE12 帶液體氣化器的滑動 PECVD 系統由一個 500W 射頻等離子源、一個 TF-1200 滑動爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐腔軌道滑動系統，可實現快速加熱和快速冷卻，可選配輔助強制空氣循環風扇，加快冷卻速度；可選配滑動自動工作裝置；最高工作溫度可達 1200℃。工作溫度最高可達 1200℃，爐管為一根直徑 60 毫米的石英管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為一臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達 10P。真空壓力可達 10Pa。
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KT-CTF14 多區 CVD 爐有 2 個加熱區，最高工作溫度可達 1200℃，爐管為直徑 60mm 的石英管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達 10Pa。真空壓力可達 10Pa。
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帶真空站的分體式 CVD 管式爐是一款多功能、高性能的實驗室設備，專為化學氣相沉積 (CVD) 應用而設計。它采用分體式爐腔，便于接觸反應樣品和快速冷卻。爐管由高溫石英制成，直徑為 60 毫米。該系統包括一個 4 通道 MFC 質量流量計，配有 CH4、H2、O2 和 N2 源氣體，可對氣體流速進行精確控制。真空站采用 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10 Pa。帶真空站的分室 CVD 管式爐具有先進的功能和性能，是材料科學、半導體加工和其他領域各種研發應用的理想選擇。
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陶瓷纖維內襯真空爐是一種使用陶瓷纖維作為隔熱內襯的真空爐。陶瓷纖維是一種輕質多孔材料，具有出色的隔熱性能。因此，它是用于真空爐的理想材料，有助于減少熱量損失和提高溫度均勻性。
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