有色金屬冶金設備

真空鋁釬焊爐 351     

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用于汽車、飛機、船舶、壓縮機、空分設備、家用電器等用的換熱器和電子通訊部件的真空釬焊。

高壓氣體滲氮多功能真空爐 389     

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主要完成高溫合金鑄件的均勻性、固溶、時效、回火等真空熱處理，同時還具有氮化功能。

真空滲碳爐 610     

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真空滲碳爐適用于汽車齒輪、高附加值齒輪的真空滲碳和淬火、碳氮共滲，以及高速鋼、工模具鋼、合金結構鋼的真空淬火、真空退火

真空高壓氣淬爐-立式 307     

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用途 ：適用于高速鋼、工模具鋼、不銹鋼的淬火，不銹鋼、鈦合金的固溶處理，磁性材料的真空熱處理。

真空水淬爐 504     

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適用于鈦合金、鈹青銅、精密合金和不銹鋼的固溶、時效和退火，高速鋼、工模具鋼、合金結構鋼的真空退火、高溫回火。特別適用于鈦合金標準件的固溶處理。

真空回火爐 268     

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高速鋼、工模具鋼、合金結構鋼、不銹鋼及其他材料的真空回火，有色金屬退火和時效處理

真空高壓氣淬爐-臥式 312     

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臥式真空高壓氣淬爐是一種先進的熱處理設備，主要用于高合金鋼、工具鋼、鈦合金等材料的真空加熱和高壓氣體淬火。

臥式三室油淬爐 293     

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臥式三室油淬爐是一種用于金屬材料(如合金鋼、工具鋼、鋁合金等)熱處理加工的專用設備，采用三室分離設計(加熱室、淬火室、冷卻/回火室)，實現連續式熱處理生產。

真空退火爐-臥式 314     

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用途：高溫合金、難熔金屬、磁性材料、有色金屬、不銹鋼的光亮退火、真空釬焊和真空燒結電工磁性材料、有色金屬的退火及時效等

高真空熱蒸發鍍膜設備 331     

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高真空熱蒸發鍍膜設備是一種利用電阻加熱或電子束加熱使材料蒸發，并在高真空環境下沉積到基片表面形成薄膜的 物理氣相沉積(PVD) 設備。該系統廣泛應用于光學薄膜、電子器件、裝飾鍍膜等領域。

高真空多功能真空鍍膜機 296     

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高真空多功能真空鍍膜機是一種集成了多種鍍膜技術(如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、離子鍍等)的先進設備，能夠在高真空環境下實現不同類型的薄膜沉積，滿足科研與工業中對復雜薄膜的需求。

真空熱蒸發鍍膜系統 322     

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真空熱蒸發鍍膜系統是一種常見的物理氣相沉積(PVD)技術，通過加熱蒸發材料使其在真空環境中氣化，隨后凝結在基片表面形成薄膜。

多功能蒸鍍設備 359     

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多功能蒸鍍設備（Multi-functional Deposition System）是集成了多種PVD技術（如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射等）的復合型鍍膜設備，通常具備：模塊化真空腔體設計，多類型蒸發源/濺射靶兼容，基片多自由度運動系統，實時膜厚監測能力，輔助離子源/加熱裝置。

高真空多源熱蒸發設備 315     

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高真空多源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱原理的物理氣相沉積(PVD)設備，通過多個獨立可控蒸發源(通常2-14個)，在高真空環境(10??~10?? Pa)下實現：單質/合金薄膜的共蒸，多層復合結構沉積，梯度成分材料制備。

14源電阻式熱蒸發設備 305     

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14源電阻式熱蒸發設備是一種超多材料共蒸系統，通過高真空環境（10??~10?? Pa）和電阻加熱蒸發，實現復雜組分薄膜的精確制備。

三源熱蒸發設備 311     

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三源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱蒸發的鍍膜系統，配備3個獨立蒸發源，可在高真空（10??~10?? Pa）環境下沉積金屬或化合物薄膜。

高真空金屬鍍膜儀 290     

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高真空金屬鍍膜儀是一種利用物理氣相沉積（PVD）技術在真空環境中沉積金屬薄膜的設備，廣泛應用于科研、電子、光學及精密制造領域。其核心特點是高真空環境（10??~10?? Pa）和金屬蒸發/濺射鍍膜技術，可制備高純度、高均勻性的金屬薄膜（如Au、Ag、Al、Cu等）。

高真空六源熱蒸發設備 310     

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高真空六源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱蒸發原理的鍍膜設備，配備6個獨立蒸發源，可在高真空（10??~10?? Pa）環境下實現多材料共蒸或順序沉積，適用于復雜組分薄膜的制備。

團簇式高真空多功能鍍膜設備 304     

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團簇式高真空多功能鍍膜設備是一種模塊化、多腔室集成的先進鍍膜系統，可在高真空或超高真空（10??~10?? Pa）環境下實現多種鍍膜工藝的連續處理，避免樣品暴露大氣，提高鍍膜質量和效率。

單室四源高真空電阻式鍍膜設備 310     

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1、真空室腔體:1套。外形：304優質不銹鋼D形前后開門真空室腔體1套，后門采用鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內部調試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門，真空室內部尺寸D350*480mm，前后門各配DN100視窗1套; 底部：有機源接口4套，JTFB-600風冷復合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美國MCVAC水冷膜厚探頭接口2套;

單室八源電阻式鍍膜設備 300     

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真空室腔體:1套；外形：304優質不銹鋼D形前后開門(后門采用鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內部調試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門)真空室腔體1套(真空室內部尺寸D400*480mm)，前后門各配DN100視窗1套; 底部：金屬蒸發源接口8套， JTFB-600風冷復合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美國MCVAC水冷膜厚探頭接口2套; 頂部：樣品臺接口1套，電動擋板接口1套，KF16氣動角閥接口1套;

超高溫超高真空蒸餾爐 376     

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該設備是一臺超高溫超高真空蒸餾爐，主要利用不同成分在相同溫度下蒸汽壓及冷凝溫度不同的原理，用于高熔點稀有或稀土金屬熔煉及蒸餾提純。

雙室高真空鍍膜設備 301     

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一、電子束水冷樣品臺組件1件： 1、旋轉：57CM23步進電機，1件光電限位開關（前后兩點）； 2、升降：57CM23步進電機，配速比1:5減速器，升降2點接觸限位開關，觸摸屏上顯示電子束高點400mm，低點300mm，金屬源高點340mm，低點240mm，另取1點，可隨意定位； 3、樣品臺擋板：24V減速電機，2件限位開關。

單室高真空電阻式鍍膜設備 387     

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鍍膜設備以蒸發源為主體，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等，整套設備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，適合及滿足大專院校的教學與科研工作。

1300℃管式爐 278     

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采用進口陶瓷纖維絕熱材料隔熱,瑞典進口kanthal電阻絲內嵌式環繞加熱，溫場均勻,高純剛玉管作為爐膛，潔凈度高。通過不同的真空系統，可獲得不同的真空，也可實現多種工藝氣體控制。

1100℃滑軌式管式爐 324     

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滑軌式管式爐一體化結構設計，用于1100℃以下快速升溫快速降溫的特殊工藝要求，通過移動爐體實現快速冷卻的目的。同時也可以預先設定溫度，然后移動到樣品處，達到快速升溫的效果。適合使用廣泛的RTP工藝及CVD石墨烯工藝。

1100℃管式爐 300     

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管式爐設計有開啟式和非開啟式兩種選擇，多樣化的搭配，滿足實驗室多種實驗的要求，高純石英管作為爐膛，潔凈度高?？色@得不同的真空，也可實現多種工藝氣體控制。設備外形精巧美觀，周邊拓展性好，適合高校、科研院所實驗之用。

試金爐 329     

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本系列試金爐為周期作業式電爐，是從樣品中提取貴金屬加熱之用，專門為礦山及冶煉行業制造的一款機型。

灰吹爐 342     

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灰吹爐為周期式作業式電爐，額定溫度為1300℃，主要是從鉛扣中提出貴金屬熔融用，是為冶煉企業專門設計制造的一款設備，也可以用于電子、陶瓷、冶金、玻璃、新材料開發等領域的實驗和生產.主要應用于火法試金中的灰吹提煉.

1600℃箱式氣氛爐 336     

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本系列電阻爐均系周期作業式，以硅鉬棒為加熱元件，爐膛額定溫度為1600℃，供實驗室、工礦企業、科研等單位在氣氛保護狀態下高溫熱處理加熱之用。